公開日: 2025/04/07

微細レジストパターンの一括形成技術[東京電機大学]

多様な表面形状へ広範囲・高速・安価にマイクロパターンを一括形成することが可能です。

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微細レジストパターンの一括形成技術 について


多様な表面形状

  • 円筒内面:円周方向へ任意パターンを一括形成
  • 段差面:段差にランダムパターンを一括形成

マイクロパターン
パターンサイズ:数μm~数百μm

広範囲・高速・安価
光リソグラフィ技術(高出力レーザー不要)

想定される用途/実績例

基本情報

研究機関
東京電機大学 工学部
特許情報
「露光装置」特願2022-131915
「内面露光装置」特願2022-019713 他
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